Ce dispositif d'analyse de couches minces pour diffractomètres à rayons X permet une analyse de haute précision des films déposés sur des substrats. Son système optique optimisé supprime les interférences du substrat, amplifiant les signaux faibles des films pour des données fiables, de l'échelle nanométrique à l'échelle micrométrique. Indispensable pour la R&D en électronique, semi-conducteurs et énergies nouvelles.