Pautreoptique filmaccessoire de mesure est un composant spécialisé utilisé dans les diffractomètres à rayons X, principalement pour améliorer l'intensité du signal et la précision de détection des échantillons de couches minces.

1.Fonctions principales deaccessoires de mesure de film optique parallèleest

Suppression des interférences de diffusion : en augmentant la longueur du réseau, en filtrant davantage de rayons diffusés, en réduisant l'interférence du signal du substrat sur les résultats de diffraction du film mince et en améliorant ainsi la force du signal du film mince.

Amélioration de la précision de l'analyse des couches minces : Convient aux tests d'épaisseur et à d'autres scénarios de couches minces nano multicouches, combinés à des accessoires de diffraction à petit angle, analyse de diffraction à faible angle dans la plage de 0°~5°peut être atteint.

2. Caractéristiques structurellesdeaccessoires de mesure de film optique parallèleest

Conception du réseau : en étendant la longueur du réseau, en optimisant le trajet des rayons X, en améliorant la capacité de filtrage des rayons diffusés et en garantissant la pureté du signal de diffraction du film mince.

3. Champ d'application depautreoptique filmaccessoire de mesure

Recherche sur les matériaux en couches minces : analyse de la structure cristalline des films nano multicouches et des films ultra-minces.

Tests de semi-conducteurs et de revêtements : utilisés pour évaluer l'uniformité, la qualité cristalline et d'autres caractéristiques des films minces.

4. Équipement compatible pourpautreoptique filmaccessoire de mesure

Cet accessoire peut être adapté à différents modèles de diffractomètres à rayons X, notamment :

Diffractomètre à rayons X TD-3500

Diffractomètre monocristallin à rayons X TD-5000

Diffractomètre à rayons X haute résolution TD-3700

Diffractomètre à rayons X de bureau TDM-20

Dans l’ensemble, lepautreoptique filmaccessoire de mesure améliore considérablement la qualité du signal de diffraction des échantillons de films minces grâce à l'optimisation structurelle et à la suppression de la diffusion, et est largement utilisé dans la science des matériaux, la fabrication de semi-conducteurs et d'autres domaines, particulièrement adapté aux besoins d'analyse de haute précision des films minces à l'échelle nanométrique.